Компании TNO и Intel недавно продемонстрировали, что луч сфокусированных ионов гелия вполне оправдывает...
Опубликовано: 02.10.2018
Компании TNO и разрабатывают новые технологии восстановления и масок
Существующие технологии устранения небольших, но критических в интегральных схемах и перестанут справляться с точки зрения и точности. Компании TNO и недавно продемонстрировали, что луч ионов вполне оправдывает на него ожидания, нанося точки и линии чистотой в 41 %, что стало рекордом. Доработка технологии ее практическое применение в компаниях, специализирующихся на выпуске интегральных схем.
Описание разработки было опубликовано в издании «Journal of Vacuum Science & Technology-B». был поставлен в г. в Van Leeuwenhoek TNO с использованием гелиоионного микроскопа (HIM) Zeiss. Специалисты TNO характеризировали и оптимизировали новый процесс совместно с компаниями TU-Delft и Zeiss. В во время сотрудничества с TNO, специалисты проанализировали материалы, что позволило внести значительный вклад практических знаний в проект.
В процессе прекурсор — органический содержащий металл — припаивается на поверхность активных частиц. Традиционно используется луч электронов или ионов Электроны позволяют выполнять операцию с большим разрешением, а галлий позволяет осаждать материалы высокой чистоты. Разрешение, лучами ионов гелия, разрешению пучка электронов, при этом чистота металла достигает 41 %, что почти в два раза наилучшие показатели, существовавшие до появления этого
Технология нуждается в дальнейшей оптимизации для использования в процессах ремонта интегральных схем и масок. Ученые видят перспективы для значительного повышения производительности, при этом удерживая количество ионов на достаточно низком уровне, что минимизировать повреждение пластины основания.
Информация с сайта www.ostec-group.ru.
2011-04-20